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  • WEP CVP21电化学C-V剖面浓度测量仪

    WEP CVP21电化学C-V剖面浓度测量仪 德国WEP公司的CVP21电化学C-V剖面浓度测试仪可高效、准确的测量半导体材料(结构,层)中的掺杂浓度分布。选用合适的电解液与材料接触、腐蚀,从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制。 电化学ECV剖面浓度测试仪主要用于半导体材料的研究及开发,其原理是使用电化学电容-电压法来测量半导体材料的掺杂浓度分布。电化学ECV(

    更新时间:2020-11-01

    厂商性质:经销商

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  • 扫描开尔文探针

    开尔文探针(Kelvin Probe)是一种非接触无损震荡电容装置,用于测量导体材料的功函数(Work Function)或半导体、绝缘表面的表面势(Surface Potential)。材料表面的功函数通常由上层的1-3层原子或分子决定,所以开尔文探针是一种的表面分析技术。主要型号:KP020 (单点开尔文探针),SKP5050(扫描开尔文探针)。

    更新时间:2020-11-01

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  • 光学薄膜测厚仪

    光学薄膜测厚仪 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原

    更新时间:2020-11-01

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