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光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)

描述:光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,紫外曝光机等;ECOPIA为的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以

更新时间:2020-11-01
产品型号:qirui
访问次数:241
详情介绍
品牌自营品牌产地类别进口
应用领域化工,能源,电子,印刷包装,电气

光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)

光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,紫外曝光机等;ECOPIA为的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以的技术、*的工艺和良好的服务,赢得了用户的青睐。

型号:M-150

技术规格:

- 掩模尺寸:大7英寸;

- 样品尺寸:大6英寸;

- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;

- 紫外光源:6.25" X 6.25";

- 光源功率:350瓦紫外灯;

- 光源均匀性:<+/-3%;

- 光源365nm波长强度:大30毫瓦;

- 显微镜:双显微镜系统;

- 显微镜移动:X,Y,Z轴手动调节;

- 显微镜物镜空间:50-150mm;

- 标配放大倍率:80X-400X;

- 显示器:20" LCD;

- 曝光时间:0.1-999秒;

- 接触模式:真空接触,硬接触,软接触,接近接触(距离可调);

- 对准精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);

- 电源:220V,单相,15安培;

主要特点:

- 光源强度可控;

- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);

- 系统控制:手动、半自动和全自动控制;

- 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式;

- 真空吸盘范围可调;

-技术:可双面对准,可双面光刻,具有IR和CCD模式

- 双CCD显微镜系统,大放大1000倍,显示屏直接调节,比传统目镜对准更方便快捷,易于操作。

- 特殊的基底卡盘可定做;

- 具有楔形补偿功能;

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