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  • 光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)

    光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner) 光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,紫外曝光机等;ECOPIA为的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上早将光刻机商品化的公司之一,拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力;并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用;以

    更新时间:2020-11-01

    厂商性质:其他

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