销售咨询热线:
18516146837
产品中心

光学薄膜测厚仪

描述:光学薄膜测厚仪
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原

更新时间:2020-11-01
产品型号:qirui
访问次数:112
详情介绍
品牌自营品牌产地类别进口
应用领域化工,能源,电子,印刷包装,电气

光学薄膜测厚仪

薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原

光反射薄膜测厚仪
原产国:美国
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器。近几年,每年的销售量都超过200台。根据型号不同,测量范围可以从10nm到250um,它可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度(其中一层为基底材料)。该产品可应用于在线膜厚测量,测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜,也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。
 
应用领域 

理论上讲,我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们熟悉的应用领域(半导体薄膜,光学薄膜涂层,在线原位测量,粗糙或弧度表面测量):
- 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);
- 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...);
- DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片;
- MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm);
- DVD/CD涂层;
- 光学镜头涂层;
- SOI硅片;
- 金属箔;
- 晶片与Mask间气层;
- 减薄的晶片(< 120μm);
- 瓶子或注射器等带弧度的涂层;
- 薄膜工业的在线过程控制;等等…

 

软件功能 
丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。
软件操作简单、测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.
软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。
软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计。
软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站