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快速退火炉的应用领域及设备说明

 更新时间:2023-05-19 点击量:670
  应用领域:
 
  1.快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);
 
  2.离子注入/接触退火;
 
  3.金属合金;
 
  4.热氧化处理;
 
  5.化合物合金(砷化镓、氮化物等);
 
  6.多晶硅退火;
 
  7.太阳能电池片退火;
 
  8.高温退火;
 
  9.高温扩散。
 
  设备说明:
 
  快速退火炉主要由真空腔室、加热室、进气系统、真空系统、温度控制系统、气冷系统、水冷系统等几部分组成。
 
  真空腔室:真空腔室是快速退火炉的工作空间,晶圆在这里进行快速热处理。
 
  加热室:加热室以多个红外灯管为加热元件,以耐高温合金为框架、高纯石英为主体。
 
  进气系统:真空腔室尾部有进气孔,精确控制的进气量用来满足一些特殊工艺的气体需求。
 
  真空系统:在真空泵和真空腔室之间装有高真空电磁阀,可以有效确保腔室真空度,同时避免气体倒灌污染腔室内的被处理工件。
 
  温度控制系统:温度控制系统由温度传感器、温度控制器、电力调整器、可编程控制器、PC及各种传感器等组成。
 
  气冷系统:真空腔室的冷却是通过进气系统向腔室内充入惰性气体,来加速冷却被热处理的工件,满足工艺使用要求。
 
  水冷系统:水冷系统主要包括真空腔室、加热室、各部位密封圈的冷却用水。