应用领域：
1.快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；
2.离子注入/接触退火；
3.金属合金；
4.热氧化处理；
5.化合物合金(砷化镓、氮化物等)；
6.多晶硅退火；
7.太阳能电池片退火；
8.高温退火；
9.高温扩散。
设备说明：
快速退火炉主要由真空腔室、加热室、进气系统、真空系统、温度控制系统、气冷系统、水冷系统等几部分组成。
真空腔室：真空腔室是快速退火炉的工作空间，晶圆在这里进行快速热处理。
加热室：加热室以多个红外灯管为加热元件，以耐高温合金为框架、高纯石英为主体。
进气系统：真空腔室尾部有进气孔，精确控制的进气量用来满足一些特殊工艺的气体需求。
真空系统：在真空泵和真空腔室之间装有高真空电磁阀，可以有效确保腔室真空度，同时避免气体倒灌污染腔室内的被处理工件。
温度控制系统：温度控制系统由温度传感器、温度控制器、电力调整器、可编程控制器、PC及各种传感器等组成。
气冷系统：真空腔室的冷却是通过进气系统向腔室内充入惰性气体，来加速冷却被热处理的工件，满足工艺使用要求。
水冷系统：水冷系统主要包括真空腔室、加热室、各部位密封圈的冷却用水。
